光学微电子净化工程|光学洁净室工程|微电子洁净

LED/液晶/线路板净化工程-(100级-30万级)无尘洁净室工程

LED/液晶/线路板净化工程-(100级-30万级)无尘洁净室工程

光学微电子净化工程定义为排除一定空间范围内空气中的灰尘颗粒、有害空气、细菌等污染物，排除室内温湿度、清洁度、室内压力、气流速度和气流分布、噪音振动和照明、静电

光学微电子净化工程又称洁净室或洁净室，目前是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、基板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近年来，由于技术创新的发展，对产品高精度化、细小型化的需求更加迫切，如超大型积体电路的研究制造，已成为世界各国非常重视科学技术发展的项目，本公司的设计理念和施工技术在业界领先。

光学微电子净化工程一般包括1、清洁生产区2、清洁辅助室(包括人员清洁用房、材料清洁用房和部分生活用房等)3、管理区(包括办公室、值班、管理和休息等)4、设备区(包括清洁空调系统的应用、电气用房、高清洁用房、冷热设备用房)

光学微电子清洁工程的原理气流→初效清洁→空调系统的应用、电气用、高清洁用房、高清洁用房、冷热设备用房)

光学微电子净化工程净化参数:10000级≥15次10000级≥20次1000≥30次。压差:主现场相邻房间≥5Pa平均风速:10级，100级0.3-0.5m/s温度冬季>16℃夏季<26℃波动±2℃。温度为45-65%的GMP粉体现场湿度最好在50%左右的电子现场湿度稍高，以免产生静电。噪音≤65dB(a)新风补充量为总送风量的10%-30%照度300LX。

光学微电子净化工程结构材料1.开展净化现场墙壁、顶板材一般多采用50mm厚的夹心彩钢板制造，其特点美观、刚性强。圆弧墙角、门、窗框等一般由专用氧化铝型材制成。2.地面可采用环氧自流坪地坪或高档耐磨塑料地坪，如有防静电要求，可选用防静电型。3.回风管道由热渡锌板制成，粘贴净化保温效果好的阻燃型PF发泡塑料板。4.高效送风口使用不锈钢框架，美观清洁，打孔网用涂装铝板，不生锈不粘尘，应清洁。

光学微电子净化工程解决方案:

净化工程设计过程中，应加强光学微电子行业净化工程设计方案的分析，根据该工程是新建工程还是旧现场改造工程，根据具体的生产工艺、生产流程等要求确定所需的清洁度、湿度。根据该工程的具体情况，考虑厂家的经济承受能力，综合各种因素决定采用什么样的净化方案，可以设计出符合甲方生产使用要求、工程成本合理、经济节能实用的方案。

1、组合式空气处理机组冷水机组高效送风口

这是最传统的净化空调系统设计方案。组合式空气处理单元包括混合段、初效过滤段、表冷段、二次回风段(或中间段)、加热段、加湿段、中效过滤段、风扇段等各种功能段。其冷源由冷水机组提供。

优点:

A.空气处理效果好，空气集中处理，送风中污染程度低。送风温度、湿度控制比较准确的

B.适用于具有集中冷却源或较大现场的

c.空调冷热源与现场普通空调系统合用或独立冷热源

dd.维护频率低的

e.现场噪音低。

缺点:

A.需要配套的冷冻室和放置热泵单元的室外空间。另外，需要放置组合式空气处理单元的空调室，例如25000m3/h的组合式空气处理单元，常用的外形尺寸为6450×1850×2250mm左右。对于旧现场的改造项目出20-30m的机械室

B.成本高。

特征:

A.建议新风集中处理后与回风混合，减少表冷段的冷处理负担

C.这种方案一般适用于清洁度高的百级、千级、万级、十万级等低清洁现场。

2、光学微电子行业净化工程设计方案剖析的水冷柜机增压风柜，高效送风口

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对比以前的方案，这是一个比较简单的空调方案。它可以大大缩小机房的面积，水冷柜可以根据具体情况布置在小机房或净化车间，增压风柜也可以布置在机房或悬挂在机房或夹层。

优点:

A.空气处理效果好，处理后空气在送风过程中污染程度低。送风的温度、湿度控制效果可以得到很好的控制。主要用空气处理单元(增压风箱)控制的

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b.配置灵活。有冷源

C.大小现场、新旧现场均适用

D.维护频率低

e.现场噪音低。

缺点:

A.需要小面积的机械室。需要冷却塔、冷却泵的配置位置

b.空调单元和空调处理单元必须集中配置

c.成本低。特点:该方案可以是一次回风也可以是二次回风，具体取决于工厂的大小，该方案一般适用于洁净度为千级、万级、十万级等的洁净现场。

3光学微电子行业净化工程设计方案分析的分体空调机柜送风口

这是最简单的空调方案。将分体空调机柜直接配置在现场，用彩钢包围，在机柜的回风口打开彩钢板的回风口(带初效过滤器)KLC风扇过滤单元FFU均匀配置在天花板上。该方案适用于室内温湿度精度要求低的清洁工厂。

优点:

A.无需占用机房面积，配置灵活

B.能够满足空气清洁度的

C.成本最低。这种清洁工厂的初始投资约需要40万人

D.送风均匀性好。

缺点:

a.温湿度控制差

b.能够满足空气清洁度

c.FFU的维护频率高。

4、光学微电子行业净化工程设计方案分析的清洁工厂特点

A、清洁工厂清洁度:

lcd制作屏幕的简单流程是清清洁→印刷方向膜→摩擦→密封印刷层分布隔板→组合→划线和切割→LC注入→制作屏幕。

在本设计中，指末端技术的清洁工厂，其清洁度一般为千级或万级或十万级。背光屏类清洁工厂主要是这种产品的冲压工厂、组装等清洁工厂，其清洁度一般为万级或十万级。

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温湿度要求:温度一般为24下2℃，相对湿度为555%。

(2)新风量大。由于在这样的工作场所，人员很多，因此可以根据以下数值取得以下最大值:非单向流洁净室总送风量的10-30%补偿室内排气，保持室内正压值所需的新鲜空气量室内每人每小时的新鲜空气量≥40m3/h。

(3)送风量大。为了满足洁净室内的洁净度和热湿平衡，需要较大的送风量，在300平方米的工厂，天花板高度为2.5米的情况下，万级的情况下，送风量为300×2.5×30=22500m3/h的送风量(换气次数为≥25次/h)的情况下，送风量为300×2.5×20=15000m3/h的送风量(换气次数为≥15次/h)。

#光学微电子行业净化工程设计方案分析常规电子厂房洁净室空调设计，应根据电子厂房生产工艺要求和甲方经济条件选择哪种空调设计方案，以满足生产工艺要求为前提。根据以往的经验，对于要求高的可以选择组合式空气处理单元集中处理的空调方案的要求不高的情况下，初次投资低的情况下，可以选择橱柜。总而言之，具体的选择取决于具体情况。

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